问题：[题]

题目：ZnO胶体和薄膜的制备与发光性能研究

ZnO是一种新型的II一VI族宽带隙半导体材料，在很多领域都有极为广泛的应用前景。它具有很高的激子结合能和高的化学稳定性，在发光器件领域有潜在的应用前景，因此对ZnO基发光材料的制备、结构和发光性能进行进一步研究非常必要。本文采用溶胶-凝胶法制备了ZnO胶体和掺Tb3+的ZnO胶体，用静电自组装法和提拉法制备ZnO薄膜，(PAN/ZnO)10 多层复合膜和ZnO：Tb3+薄膜，测试了胶体、薄膜的紫外-可见吸收光谱和激发、发射光谱，并研究了水浴时间、LiOH浓度、溶胶浓度、制备温度、陈化时间、助剂、薄膜层数、退火温度等实验参数对溶胶和薄膜的结构和发光性能的影响，利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、扫描电镜(SEM)等分析测试手段对薄膜的微结构、形貌进行了分析，并利用紫外-可见分光光度计和荧光分光度计对胶体和薄膜的发光性能进行了研究。结果表明：制备工艺对胶体和薄膜的性能有显著的影响，改变制备工艺的不同可以得到在紫外光照射下发蓝光和黄光的胶体，这是由于得到的胶体的粒径不同造成的蓝移、红移现象引起的；助剂的加入能显著提高胶体的发光强度；采用自组装和提拉工艺可以得到纳米ZnO薄膜，薄膜的发光性能与溶胶的制备工艺和薄膜的热处理工艺等密切相关；掺杂Tb3+后能得到同时存在ZnO和Tb3+发光的胶体和薄膜，存在ZnO Tb3+的能量传递过程。